판매용 중고 EBARA EPO-113 #9219031

EBARA EPO-113
ID: 9219031
Oxide CMP system.
EBARA EPO-113은 예술 다기능 웨이퍼 연삭, 랩핑 및 연마 장비의 상태입니다. 그것 은 여러 가지 요구 조건 이 있는 "웨이퍼 '에" 플랫' 하고 완전 히 완성 된 여러 가지 표면 을 생산 하도록 설계 되었다. EBARA EPO 113은 기능, 정확성 및 신뢰성을 단일 시스템으로 결합합니다. EPO-113에는 2 개의 독립 캐리어가 있으며, 각각 4 개의 3 축 수치 제어 분쇄 스핀들이 있으며 2 개의 캐리어가 장치에 내장되어 있습니다. 3 축 스핀들 (spindle) 은 다양한 치료에 대해 균등하고 정확한 결과를 생성하도록 프로그래밍 될 수있다. 두 캐리어는 서로 다른 기능으로 독립적으로 작동할 수 있으며, 기계로 다중 레벨 그라인딩, 랩핑, 연마, 단일 패스 (pass) 를 수행할 수 있습니다. 이렇게 하면 시간이 절약되고 정확도와 생산성이 향상됩니다. 에포 113 (EPO 113) 은 웨이퍼의 안전한 위치를 배치하기 위해 슬롯 식 표면 판을 장착하여 전체 유닛의 정확도를 향상시켰다. 이 도구는 밀봉 된 인클로저 및 진공 복구 시스템을 포함한 공기 제거 메커니즘으로 먼지 오염으로부터 보호됩니다. EBARA EPO-113은 고해상도 디지털 디스플레이 모니터 (Digital Display Monitor) 를 통해 프로세스 매개변수를 시각적으로 확인할 수 있으며, 뛰어난 제어 및 추적 기능을 제공합니다. 이 자산은 모듈식 (modular) 으로, 고객의 특정 요구에 맞게 구성할 수 있으며, 간편한 전송 및 스토리지 (transport and storage) 를 위해 모델을 분리할 수 있습니다. EBARA EPO 113에는 사용이 쉽고 직관적인 고급 Sicoya 제어 소프트웨어가 장착되어 있습니다. 이를 통해 사용자는 여러 프로세스를 쉽게 프로그래밍하고 제어할 수 있으며, Wafer 처리를 정확하게 수행할 수 있습니다. 또한 wafer process 매개변수의 데이터 로깅 및 추적 (traceability) 기능을 통해 wafer 처리의 품질 관리에 유용합니다. 웨이퍼 레벨 광택제 인 EPO-113은 웨이퍼 머시닝을위한 훌륭한 솔루션을 제공합니다. 매우 정확한 머시닝 결과는 향상된 제품 품질과 수율을 제공합니다. 단일 패스로 다중 처리 단계를 수행하는 3 축 장비의 능력은 웨이퍼 머시닝 (wafer machining) 의 주기 시간과 비용을 크게 줄입니다. EPO 113 시스템은 정확한 요구 사항을 충족하는 고품질 플랫 서피스를 제공하도록 설계되었습니다.
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