판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9373099

ID: 9373099
CVD system, 6" SV21 SBC Board Main frame type: Mark-II Cassette indexer, 6" clamp 8-Slots elevator (2) CRT Monitors Robots: Phase-III Robot blade: Standard vacuum Center finder: USE Cap wafer sensor AC Rack: 1 Shrink Heat exchanger EMO Option: Turn to release EMO Button guard rings Status light tower (Color / Position): Red, yellow, green, blue Signal cable: 25' Flash Hard Disk Drive (HDD) Floppy: 3.5" SCSI Driver Gas panel: 12 Channels standard / Minicontroller RF Generator: Chamber A: OEM12B-07 Chamber B: OEM12B-02 Chamber C: OEM12B-02 Chamber: Chamber position: A, B, D Chamber type: DLH 1-Hole Process: SiH4 Oxide Heater type: Lamp Susceptor type: Al (3) Matches Delta nitride dual spring throttle valve Gas panel: 20 Standard channels Gas supply: Top down MFC: SEC4400MC Manual valve: NUPRO Pneumatic 2-Way valve: NUPRO MKS 122B Baratron gauge, 10 Torr Gases: Gas / Range N2 / 3 SLM SiH4 / 100 SCCM CF4 / 2 SLM N2O / 2 SLM.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000은 다양한 초고온 프로세스에 사용하도록 설계된 상용화된 대용량 UHV 원자로입니다. 이 장비는 뛰어난 청결도 (Cleanliness) 와 온도 균일성 (Temperature Unifority) 을 제공하며 높은 수준의 처리량과 생산성을 제공합니다. 다양한 사용자가 선택한 마감으로 스테인리스 스틸로 구성됩니다. 이 시스템은 고성능 워터 제트 보조 증착 장치 (water-jet-assisted deposition unit) 를 갖추고 있으며, 균일하고 반복 가능한 증착 프로세스 제어에 효율적인 에너지 입력 및 기판 가열을 제공합니다. 이 기계는 고속 스캔 및 풀 펄스 플라즈마 흥분 기능도 제공합니다. 공구의 중심에는 매우 높은 진공, 고성능 원자로 챔버가 있습니다. 이 챔버는 긴 펌핑 주기를 갖춘 초고진공 환경을 제공하도록 설계되었으며, 스퍼터링 (sputtering), 고온 증발 (high temperation) 및 기타 여러 화학 증기 증착 공정과 같은 다양한 초고온 공정을 가능하게합니다. AMAT P-5000 의 고온, 균일성, 모듈성을 통해 한 자산에서 광범위한 프로세스 매개변수, 재료를 테스트할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS P 5000 모델에는 고급 재료 처리 및 포지셔닝 시스템도 장착되어 있습니다. 여기에는 웨이퍼 포지셔닝 장비 (wafer positioning equipment) 와 부품 조작에 사용할 수있는 로봇 암 (robotic arm) 이 포함되며, 둘 다 3 개의 무료 동작 축에서 모두 작동 할 수 있습니다. 이 시스템에는 정확한 부품 포지셔닝을 위한 3차원 인코더와 함께 정확한 부품 포지셔닝 (part positioning) 및 점대점 (point-to-point) 동작을 위한 선형 단계도 포함됩니다. 이 장치를 사용하면 구성 요소를 효율적이고, 반복적으로 로드하고, 언로드할 수 있으며, 사용자가 원하는 프로세스 결과를 얻을 수 있습니다. P5000 기계는 등각 증착, 에치 처리 등 다양한 프로세스 레시피를 지원하도록 설계되었습니다. 안정된 고온 환경과 조절 가능한 가스 전달 도구 (Adjustable gas delivery tool) 는 다양한 어플리케이션에 적합합니다. 이 자산에는 프로세스 챔버의 내부 모니터링 (in-situ monitoring) 및 기탁 된 필름 배출 (ejection) 과 같은 통합 프로세스 모니터링 도구가 포함되어 있습니다. 통합된 프로세스 내 모니터링 (in-process monitoring) 모델은 실시간 프로세스 피드백을 제공하며, 이를 통해 사용자는 적절한 조정으로 생산량 및 품질을 향상시킬 수 있습니다. AMAT P 5000 원자로 (AMAT P 5000 Reactor) 는 다양한 증착 및 에칭 프로세스를 위해 최적화되고 생산성이 높은 프로세스 플랫폼을 찾는 사용자에게 이상적인 선택입니다. 효율적인 에너지 입력 (Energy Input), 고온 균일성 (High Temperity), 통합 프로세스 제어 (Integrated Process Control) 기능을 결합하여 효율적이고 반복 가능한 운영 실행을 위한 완벽한 선택이 가능합니다. 사용자 친화적 인 디자인 (user-friendly design) 은 경험이 부족한 사용자조차도 장비를 신속하게 설정하고 실행하여 최대의 프로세스 수율을 달성할 수 있음을 의미합니다.
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