판매용 중고 AIXTRON AIX #9409484
URL이 복사되었습니다!
확대하려면 누르십시오
AIXTRON AIX는 독일의 주요 반도체 장비 제조업체 인 AIXTRON SE가 생산 한 화학 증기 증착 (CVD) 원자로입니다. AIX 원자로는 실리콘, 이산화규소, 도핑 된 실리콘과 같은 박막 반도체 재료의 생산에 사용됩니다. AIXTRON AIX 원자로는 금속 유기 화학 증기 증착 (MOCVD) 기술을 기반으로하며 대기 압력 화학 증착 (APCVD), 저압 화학 증기 증착 (LPCVD) 증착 증착 (LPCVD 및 고압 증착) 의 세 가지 CVD 모드에서 모두 사용할 수 있습니다. 원자로는 모든 재료 생산에서 CVD의 단일 소스로 사용하도록 설계되었습니다. 2 단계 공정을 사용하며, 1 단계는 반응물 예열 챔버 (reactant preheating chamber) 이고 2 단계는 반응 챔버 (reaction chamber) 입니다. 예열 챔버는 유도 오븐에 의해 필요한 작동 온도까지 가열됩니다. 반응 챔버는 가스 발사 적외선 램프에 의해 가열됩니다. 공정 가스는 반응 시점에서 원자로에 도입된다. 이 과정은 정확한 제어 시스템에 의해 규제됩니다. AIX 원자로는 정의된 두께와 정확한 형상의 고품질 필름을 생성 할 수 있습니다. 원자로의 매우 깨끗한 환경은 뛰어난 균일성과 재생성 가능한 광학 및 전기 특성을 보장합니다. 이 필름은 단일 또는 다중 레이어로 재배 할 수 있으며, 종종 트랜지스터, 다이오드 및 기타 능동 및 수동 전자 부품 (Active and Passive Electronic Component) 과 같은 반도체 장치 제조에 사용됩니다. AIXTRON AIX 원자로는 표준 AIX600, AIX1200 및 AIX1800을 포함한 여러 모델로 제공됩니다. 각 모델은 향상된 성능 특성과 확장성을 제공합니다. AIX1200 및 AIX1800은 프로세스 자동화 및 유연성이 뛰어납니다. 원자로에는 자동 광학 모니터링 시스템 (Optical Monitoring System) 이 장착되어 생산 중인 필름을 측정 할 수 있습니다. AIX는 안정적이고 다재다능한 원자로로, 높은 수준의 제어 및 유연성을 제공합니다. 반도체 제조에 사용될 뿐만 아니라, 광학 부품을위한 유전체, 반사 (reflective), 투명 계층 (transparent layer) 과 같은 다른 박막 생산에도 사용될 수 있습니다. 원자로는 대용량 생산에 적합하며, 청소실 (cleanroom) 환경에서 사용하기에 적합합니다.
아직 리뷰가 없습니다