판매용 중고 VERTEQ 1600 #9280736

VERTEQ 1600
제조사
VERTEQ
모델
1600
ID: 9280736
Spin Rinse Dryer (SRD) Membrane control panel Control box Resistivity monitor Static eliminator Automatic rinse cycle Emergency power: Off High pressure D.I water valve Capacity: Wafer carrier Facility: N2: 6-6.5 cfm under 50 psi DI: 1.75 gpm under 25 psi Drain: 1.1/2" NPT pipe Power supply: 120 VAC, 50/60 Hz, 15 A Rotor Balance: With cassette (6) D.I water nozzles Hot N2 dry Door seal Process capability and parameters: Rinse speed Rinse time Dry speed Dry time DI Resistivity monitor.
VERTEQ 1600은 전자, 광전자 및 기타 MEMS (micro-electro-mechanical) 회로를위한 복잡하고 정밀도 높은 광석학 패턴 개발을 가능하게하도록 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 고해상도 카메라, 광원 및 석판 도구로 구성됩니다. 1600 년 카메라는 12 비트의 컬러 (3 채널) 로 최대 16 메가 픽셀을 이미징 할 수 있으며 내부 조명 장치가 장착되어 있습니다. 카메라는 그리드 패턴을 사용하는 이중 마스크 정렬 기계를 사용하여 명목 정확도가 +/- 5 um 인 패턴 프레임을 정확하게 정렬합니다. 이 정밀도는 MEMS 및 optoelectronic 응용 프로그램에 이상적인 고도의 세부, 저손실 이미징을 허용합니다. VERTEQ 1600의 광원은 균일 하고 고강도 조명을 제공하는 400 와트 짧은 아크 램프입니다. 이 도구는 또한 듀얼 라이트 필터링 (dual light filtering) 자산을 통합하여 노출 시간과 스펙트럼 범위의 유연성을 허용합니다. 이를 통해 사용자는 특정 요구사항과 응용프로그램에 따라 조명과 노출 시간을 조정할 수 있습니다. 1600의 석판화 도구는 포토 마스크의 정확한 노출을 촉진합니다. 통합 스테퍼 모터 (stepper motor) 및 독립 컨트롤러 (independent controller) 를 사용하여 모든 방향으로 완전한 3 차원 이동을 용이하게하며, 최대 +/- 7.5 um 위치 정밀도로 임의의 각도로 높은 정확도, 반복 가능한 기능을 만들 수 있습니다. 또한 리소그래피 도구에는 최고의 노출 충실도 (Fidelity of Exposure) 를 보장하는 초점 모델이 포함되어 있습니다. VERTEQ 1600 (VERTEQ 1600) 은 전자식 및 광전자식 회로를위한 복잡한 패턴 개발을 가능하게하기 위해 설계된 고급 광전자 장비입니다. 고해상도 카메라, 듀얼 마스크 정렬 시스템 및 400 와트 쇼트 아크 램프 (Short Arc Lamp) 는 내장형 리소그래피 도구 외에도 MEMS 및 광전자 어플리케이션에 이상적인 고해상도, 저손실 이미징을 가능하게 합니다.
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