판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9399016

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 7은 반도체 장치 제작을 위해 설계된 포토 esist 처리 장비입니다. 높은 정확도와 대용량 포토레지스트 (photoresist) 패턴을 만드는 데 사용되는 작고 자동화된 도구입니다. 이 과정은 photoresist를 기판에 적용하는 것으로 시작됩니다. 이것은 수평 스핀 온 코터 (spin-on coater) 에 의해 수행되며, 웨이퍼 표면에 포토 esist의 균일 한 커버리지를 제공합니다. 그런 다음, 적용 된 "포토레지스트 '를" 핫 플레이트' 에 구워 기판 에 고정 시킨다. 그런 다음 photoresist 시스템은 원하는 패턴을 포함하는 photomask로 기판을 밝힙니다. 특수 조명 메커니즘은 마스크의 최적의 조도를 보장하고 프로세스를 간소화합니다. 최대한의 안정성과 최적의 이미지 정확성을 제공하도록 설계된 내장형 VUV 조명기 (VUV illuminator) 는 장치의 중요한 부분을 나타냅니다. 기질을 노출 한 후, 기계는 특별한 유형의 용매를 사용하여 원치 않는 포토 esist를 씻습니다. 이것은 일반적으로 RIE (반응성 이온 에칭) 로 알려진 공정 인 기화 된 탄화수소 목욕을 사용하여 수행됩니다. 그런 다음 노출 및 세척 된 기질이 개발된다. 나머지 포토 esist는 독점 개발 유체를 사용하여 제거됩니다. 이 공구는 웨이퍼의 균일 한 개발을 보장하고 잔기 (residue) 의 형성을 제거하기 위해 교정된다. 일단 "웨이퍼 '가 개발 되면 건조 모듈 로 옮겨진다. 이 모듈은 표면에 사진 저항을 균등하고 일관되게 분포 할 수있는 활성 건조 공정 (active drying process) 을 사용합니다. 건조 단계는 패턴을 보존하고 높은 수확량을 달성하기 위해 필요합니다. TEL MARK7 photoresist 처리 자산은 높은 정확도와 고수율 나노메트릭 photoresist 패턴을 만드는 데 적합한 도구입니다. 이 제품은 안정적이고 비용 효율적이며, 최첨단 기술을 사용하여 많은 반도체 (반도체) 기업의 표준 도구입니다.