판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #293632604

ID: 293632604
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1995
(1) Coater / (2) Developer system, 8" Silicon wafer Wafer flow: Right to left Single block Process station (PSB): Process block robotic arm (PRA) ADH (4) LHP (3) CPL FC-9801 F Controller Stage: Cassette stage Indexer: Open CSB CRA 2-1 COT unit: Resist dispense nozzle with HV pump Side rinse nozzle Dual back rinse nozzles Photoresist temperature controller Motor flange temperature controller Direct gravity drain type 2-2 / 2-3 DEV unit: Stream nozzle Dual D.I top rinse nozzle Dual back rinse nozzles Motor flange temperature controller Direct gravity drain type Auto damper Auto dummy dispenser Chemical supply system: Solvent supply for COT unit Develop solution supply for (2) DEV units Power transformer SHINWA THC Temperature and humidity controller Hard Disk Drive (HDD) included (2) Circular pumps missing 1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 포토 esist 장비는 고급 전자 제품 생산에 사용되는 사진 해설을위한 고급 기술입니다. 반도체 집적 회로 (IC) 및 인쇄 회로 기판 (PCB) 제조에 광범위하게 사용됩니다. TEL Clean Track Mark 7 시스템은 최첨단 기능을 제공하여 photomask를 깨끗하고 효율적으로 제작할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7은 다중 영역, 다중 패턴 노출 프로세스 및 반사 방지 코팅과 같은 고급 기능을 제공합니다. 이것은 단위로 생성 된 포토 마스크를 보다 정확하고 예측 가능하며 일관되게 만듭니다. 이 기계는 또한 단일 헤드 노출 도구 (single head exposure tool) 로 가능한 가장 큰 분야에서 가장 높은 조명을 제공하는 고급 "슈퍼 필드 (super field)" 기술을 사용합니다. 이를 통해 전체 포토 마스크가 정확하고 균일 하게 노출됩니다. "슈퍼 필드" 기술은 또한 PEB (Post Exposure Bake) 솔루션과 같은 다른 응용 프로그램의 목적으로 직접 웨이퍼 노출을 허용합니다. 이 자산에는 호스트 시스템과의 통신을 위해 데이터 전송 모델도 내장되어 있습니다. 이 기능을 사용하면 장비의 데이터를 신속하게 다운로드하고 분석할 수 있습니다. Clean Track Mark 7 photoresist 시스템에는 통합 온도 제어 및 셔터 작동과 같은 많은 고급 자동화 기능이 있습니다. 이를 통해 노출 시간을 정확하고 정확하게 제어할 수 있으며, 노출 프로세스 전반에 걸쳐 제품을 정확하게 추적할 수 있습니다 (영문). 이 자동화 기능은 photolithography 생산과 관련된 오버헤드 비용을 낮추는 데 중요합니다. TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 포토 esist 유닛도 고급 보호 기능을 제공합니다. 여기에는 진동 분리 기계, 정적/동적 보호, 공기 여과 및 결함 격리가 포함됩니다. 이러한 기능을 사용하면 노출 과정에서 공구 (Tools) 의 컴포넌트를 더욱 안전하게 보호할 수 있으며, 에셋이 작동 상태가 양호하게 유지되도록 합니다. 전반적으로 TEL Clean Track Mark 7 포토 esist 모델은 고정밀도 및 신뢰성 있는 포토 마스크 생산을위한 귀중한 기술입니다. 이 제품은 복잡한 회로를 효율적으로 생산할 수 있는 고급 기능과 자동화 (automation) 기능을 제공합니다. 이 장비는 반도체 및 PCB 산업에서 사용하기에 적합합니다.
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