판매용 중고 NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9355328
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ID: 9355328
웨이퍼 크기: 3"-8"
Film thickness measurement systems, 3"-8"
Films: Up to 3-layers
Wavelength range: 400 to 800 nm
Film thickness range:
Visible: 250Å to 20 μm
UV and visible: 40Å to 20 μm (Dependent on film type)
Reproducibility: < 1Å UV / 2Å (Visible)
Measurement time: 0.5-3 Sec/site
Data management: 2D and 3D Mapping / Diameter scan
Communication type: SECS II
Data export: ASCII
Optics: 4x, 10x, 15x (UV), 40x
Spot sizes: 50 / 20 / 18 (UV) / 5.5 μm
PC System with high capacity drives
LCD Screen
Tabletop components:
Optics stand
Monitor and keyboard
Mouse
Trackball and joystick
Control electronics (WxDxH):
14" x 24" x 28"
35.56 x 60.96 x 71.12 cm
Power supply: 117 ±5% VAC, 50/60 Hz, 5 A.
나노 메트릭 (NANOMETRICS) Nano Spec 6100은 반도체 제조업체가 최고의 생산 품질을 보장하도록 돕는 최고의 에지 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템에는 고출력 (100 와트) 레이저 다이오드, 대형 시야각 카메라, 고급 광학 및 이미지 처리 알고리즘이 포함되어 있습니다. Nano Spec 6100은 마스크 및 웨이퍼 표면 모두에서 3.5nm (small) 의 결함 기능을 자동으로 검사하며 석판화 핫스팟, 입자, 스크래치 및 기타 심각한 결함을 신속하게 감지 할 수 있습니다. NANOMETRICS Nano Spec 6100은 100 와트 레이저 다이오드를 사용하여 기판 표면을 가로 질러 스캔되는 크고 직사각형 시야에서 빛을 투영합니다. 이 장치의 광학은 왜곡 (distortion) 과 광산 (light scatter) 을 최소화하여 충실도가 높은 하위 파장 결함 및 표면 기능을 감지 할 수 있도록 설계되었습니다. 결과 이미지는 이미지 분할 알고리즘 (image segmentation algorithm) 에 의해 실시간으로 분석되어 결함을 파악하고 플래깅하여 검사합니다. Nano Spec 6100은 두 가지 고급 이미징 모드를 사용하여 최대의 유연성과 견고성을 제공합니다. RGB 이미징 모드에서, 기계는 고해상도 컬러 센서를 사용하여 마스크 및 웨이퍼 기판의 결함을 감지합니다. 대조적으로, 단일 파장 이미징 모드에서, 단일 레이저 파장은 크고 작은 입자, 긁힘, 구덩이 및 기타 결함의 임계 값 기반 검출을 수행하는 데 사용된다. NANOMETRICS Nano Spec 6100은 또한 높은 수준의 자동화 및 유연성을 제공합니다. 대형 터치스크린 디스플레이를 통해 운영자는 쉽게 검사를 시작하고, 중지하고, 설정을 변경하고, 결과를 분석할 수 있습니다. 또한, 이 툴의 고속 스캐닝 기능과 자동 결함 인식 (Automated Defect Recognition) 기능은 탁월한 처리량과 성능을 제공합니다. 전반적으로 Nano Spec 6100은 업계 최고의 성능을 제공하는 훌륭한 마스크 및 웨이퍼 검사 자산입니다. 고해상도 이미징 (High Resolution Imaging) 과 강력한 자동화된 알고리즘을 통해, 이 모델은 석판화 결함 및 중요한 표면 (surface) 기능을 빠르고 안정적으로 감지 할 수 있습니다. 현대 반도체 제조에서 최고 수준의 품질 (Quality) 과 생산량을 달성하기 위한 강력한 도구입니다.
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