판매용 중고 CANON PLA 501 FA #97269
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ID: 97269
Mask aligner
Mercury lamp
Filter L-39
Image surface illumination: 13mW/cm2
Exposure Repeatability: +/-3%, range 0.1 - 59.9
Alignment scope objective lens: 10x
Eyepiece: 10x - 15x
Size of field view: 10x 3.6 mm, 1.8 mm, 0.9 mm
Distance between visual points on photomask movement range: X: +/-10 mm Y: +/-10 mm
Tungsten lamp: 6V, 3A, 18W
Belt drive
Realignment accuracy total: 100+/-10 um with 72 mm span for 4" wafer, 54 mm for 3" wafer
Auto alignment tolerance setting time: +/-0.5um +/-10um +/-20um.
Approx time: 10 sec
Nitrogen gas pressure: 1kg/cm2 (14.2PSI)
Clean air pressure: 2.5kg (35.6PSI), 3.5kg (49.8PSI)
Vacuum Range: 45-76cm
Power 100/117/220/240VAC +/-10 350VA 50/60 Hz.
CANON PLA 501 FA는 photolithography 응용 프로그램을 위해 설계된 고급 Mask Aligner 장비입니다. 반도체 업계의 반도체 장치 제조에 사용됩니다. 고급 photolithography 기술을 사용하여 photoresist-covered 기판에 마스크를 선형으로 정렬합니다. 넓은 영역 정렬 마스크, 확장 노출 영역 및 향상된 정렬 시스템 (Enhanced Alignment System) 이 특징입니다. 고급 포토 리토 그래피 (photolithography) 장치는 고강도 울트라 바이올렛 광원과 투영 렌즈로 구성됩니다. 통합 스테이지는 최대 0.5 nm의 위치 해상도와 0.15 nm의 반복 성을 제공합니다. 이 장치에는 측정 원점을 한 단계 이동하도록 설계된 드라이브 메커니즘이 있는 스테퍼 모터 (stepper motor) 가 있습니다. 또한, 마스크 정렬을 활성화하기 위해 100 개가 넘는 마이크로 프로세서와 4 개의 CCD 카메라가 있습니다. CANON PLA-501FA의 넓은 영역 정렬 마스크는 각각 206mm 및 170mm의 너비와 높이를 갖습니다. 이를 통해 넓은 면적의 노출이 가능하며, 시간을 줄여 생산성을 높일 수 있습니다. 노출 영역의 직경은 79mm, 강화 된 X 빔 및 부품을 쉽게 처리 할 수있는 홀더입니다. 이 마스크 정렬 (Mask Aligner) 이 제공하는 고급 정렬 기계에는 기판에서 투영 된 패턴을 정확하게 감지하는 12 채널 데드 존 (dead zone) 결정 도구가 포함되어 있습니다. 또한 구조의 정확한 정렬을 위해 고도의 정밀 정렬 알고리즘이 특징입니다. PLA 501FA는 내장형 고성능 에어샤워 (air shower) 로 제조되어 최적의 결과를 위한 깨끗한 공기 공급을 보장합니다. 또한 자동 높이 감지, Z 레벨 스캔 및 2 가지 유형의 캠 샤프트 커터 (camshaft cutter) 와 같은 다양한 추가 기능도 갖추고 있습니다. 전체적으로 PLA-501FA는 고정밀, 고속 반도체 장치 제작을 위해 설계된 고급 Mask Aligner입니다. 넓은 영역 마스크, 확장 노출 영역 (exposure area) 및 향상된 정렬 자산 (alignment asset) 이 결합하여 정확하고 빠르고 정확한 프로세스를 제공합니다.
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