판매용 중고 CANON MPA 600 Super #9240097

ID: 9240097
빈티지: 1991
Mask aligner Infrared wafer detection Wafer pre-align unit Does not include TVAA parts 1991 vintage.
CANON MPA 600 Super는 반도체 장치 생산에 사용되는 정교한 마이크로 구성 장비입니다. 마스크 정렬기 (Mask Aligner) 입니다. 즉, 포토 마스크를 포토 esist로 코팅 된 웨이퍼에 정확하게 정렬하고 노출시키는 데 사용됩니다. CANON MPA600SUPER의 광학 배율은 40X에서 100X로, 30nm 이상의 정확도 및 4 차원 정렬 기능 (X, Y 및 Z) 을 갖습니다. 이렇게 하면 마스크 정렬 (mask aligner) 이 광시야에서 나노미터 정밀도로 photomask를 정렬할 수 있습니다. 정확한 정렬 및 균일 한 노출을 보장하기 위해, 이 기계는 높은 정밀 단계, 회절 제한 렌즈, 빔 분할 (beam splitting) 및 수차 교정을위한 원래 광학 빔 조리기를 갖추고 있습니다. MPA-600SUPER는 또한 정렬 오류를 수정하고 라인/공간 해상도를 두 배로 늘리는 디지털 라인/스페이스 이미징 기술을 사용합니다. 또한이 기계에는 고강도 할라이드 수은 광원이 장착되어 있습니다. 이렇게 하면 고해상도 노출과 고해상도 이미징의 노출 시간이 짧아집니다. MPA 600 Super는 또한 웨이퍼 스테이지 변형 제어 메커니즘, 웨이퍼 흡입 메커니즘 (wafer suction mechanism) 및 오염을 최소화하도록 설계된 자동 상승 시스템 (auto-elevation system) 을 사용하는 웨이퍼 관리 시스템을 포함하여 고급 웨이퍼 처리를 제공합니다. 이 기계는 또한 반사 방지 유리 (anti-reflection glass) 와 반사 광센서 (reflected light sensor) 와 같은 고급 안전 기능을 제공하여 포토 마스크에 재료가 있는지 감지합니다. 또한 MPA600SUPER 는 포토 마스크 (photomask) 의 노출 과다 방지 를 위한 정밀 노출 (exposure dose) 및 자동 차단 시스템 (automatic shutoff system) 을 갖추고 있습니다. 이러한 기능을 통해 MPA-600 SUPER는 매우 정밀하고 신뢰성이 높은 다양한 반도체 장치를 생산할 수 있는 이상적인 도구입니다 (영문).
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