판매용 중고 VARIAN 350D #293595050

ID: 293595050
웨이퍼 크기: 6"
Ion implanter Dual end station, 6" Freeman source HP Gas unit Beamline cryopump BIC / BROOKHAVEN INSTRUMENTS CORP Digital scanner Monitor scope, 5" Remote operation unit Current integrator Vacuum gauge controller GLASSMAN HIGH VOLTAGE INC Power supply: 180 kV (2) Cryo-Torr 8 Cryopumps Diffusion pump.
VARIAN 350D는 반도체 장치 제작을 위해 설계된 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 반도체 웨이퍼의 이온 이식 및 빠른 열 처리에 모두 사용됩니다. 바리안 350 D (VARIAN 350 D) 는 매우 광범위한 기능을 제공하여 모든 유형의 반도체 장치에 최적의 성능을 제공합니다. 350D에는 고출력 펄스 이온 소스와 빔 전류 및 전압의 고정밀 제어가 장착되어 있습니다. 또한 다양한 플라즈마 에칭 (plasma etching) 및 클리닝 챔버 (cleaning chamber) 를 사용하여 반도체 웨이퍼를 빠르게 청소하고 에칭할 수 있습니다. 350 D는 또한 저에너지 이온 폭격 원 (ion bombardment source) 을 가지고 있으며, 반도체 물질의 구조에 대한 자세한 조사 및 영상을 가능하게한다. VARIAN 350D의 이미징 기능은 장치 제작의 전반적인 품질을 향상시키는 데 도움이 됩니다. 또한 모니터 시스템 (monitor system) 을 사용하여 이온 이식 프로세스를 임플란테이션 프로세스 중 언제든지 시각적으로 관찰할 수 있습니다. 모니터 시스템은 또한 이식 매개 변수 (예: 빔 전압, 전류, 스캔 속도) 를 최적화할 수 있습니다. VARIAN 350 D는 빠른 열 처리가 가능합니다. 즉, 단 몇 초 만에 섭씨 900도의 온도에 도달 할 수 있습니다. 이를 통해 350D는 매우 정확한 온도가 필요한 제작 프로세스에 이상적입니다. 350 D는 또한 다중 종 이식 (implantation) 이 가능하여 붕소 및/또는 인을 반도체 물질로 정확하게 통합 할 수있다. 다양한 기능과 기능 외에도 VARIAN 350D는 고급 안전 기능 (Safety Feature) 을 갖추고 있습니다. 다단계 안전 시스템 (Multi-Stage Safety System) 은 전기 충격 및 단거리 회로로부터 사용자를 보호하도록 설계되었습니다. 이로 인해 실험실이나 산업 환경에서도 VARIAN 350 D를 사용할 수 있습니다. 350D는 매우 다재다능하고 강력한 이온 임플란터 (ion implanter) 및 모니터로, 반도체 장치 제작에 탁월한 결과를 제공할 수 있습니다. 이 제품은 다양한 기능과 기능을 갖추고 있으며, 대규모/소규모 반도체 디바이스 제작에 가장 적합한 솔루션입니다.
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