판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS NV 3206 #9105737
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EATON NOVA/AXCELIS NV 3206 Ion Implanter and Monitor는 고정밀 이온 이온 이식 및 반도체 장치 제조를 위해 설계된 중형 장비입니다. 특허를받은 "3 창" 기술 인 Tandem Mass Analyzer는 기질에서 기판까지 임플란트 정확성과 반복 성을 보장합니다. 모니터 (Monitor) 는 모든 유형의 임플란터블 (Implantable) 재료를 고정밀 배치하기 위해 동시에 작동 할 수있는 최대 4 개의 빔을 갖춘 다양한 임플란테이션 속도를 제공합니다. AXCELIS NV 3206은 전자 및 광자 장치, 그리고 미세 전기 기계 시스템 (MEMS) 을 포함한 반도체 요소의 제작에 이상적입니다. 센티미터 당 1,000 암페어 (ampere-per-centimeter) 제곱 빔 전류 등급과 센티미터 당 최대 90 마이크로 암페어의 이식 용량 속도 기능이 있으며 질량 정밀도는 백만 당 1 부 미만입니다. 이 장치의 컴퓨터 제어 사용자 인터페이스를 사용하면 용량, 에너지, 주파수, 스팟 크기 (spot size) 와 같은 이식 매개변수를 포함하는 정확한 사용자 정의 임플란트 프로그램을 사용할 수 있습니다. 이 시스템에는 또한 배경 입자 수를 최소화하고 다양한 이식 (implantation) 실행에서 가장 높은 반복 가능성을 제공하기 위해 설계된 이온 빔 추출 장치 (ion beam extraction unit) 가 포함되어 있습니다. 이 모니터는 고정밀 빔 시프트 (beam shift) 를 통해 다양한 에너지와 전류 조합을 가능하게 하여 고정밀 이온 임플란테이션 (implantation) 작업을 가능하게 합니다. 또한, 기계의 고대역폭 E 필드 제어는 2 개의 최적화 된 E 필드 프로파일과 기판 등급을위한 가변 극성 모드 (polarity mode) 를 선택합니다. EATON NOVA NV 3206은 프로덕션 및 프로토 타입 임플란테이션의 성능을 최적화하는 안정적이고 다양한 도구입니다. 이온 소스 디자인은 다운타임을 줄이고 전반적인 생산 수율을 향상시킵니다. 또한 빔 (beam) 순도를 보장하고 장치의 이미징 특성을 향상시키는 관성 안정화 된 빔 (beam) 운송 자산이 특징입니다. 이 모니터는 모니터링 및 진단 기능 (monitor-in monitoring and diagnostic features) 을 내장하여 임플랜테이션 작업의 빠르고 정확한 피드백 및 분석을 지원합니다.
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