판매용 중고 COLIGHT 1230 #293589867

COLIGHT 1230 (COLIGHT 1230) 은 웨이퍼 및 광학 부품 제조에서 다양한 리소그래피 및 처리 응용 프로그램에 사용되는 노출 장비입니다. 이 시스템은 자외선 (UV), 가시 광선, X-Ray, 심해 자외선 (DUV) 및 하이 진공 (HV) 과 같은 다양한 유형의 노출을 제공 할 수 있습니다. 이 장치 설계를 통해 광범위한 노출을 수행할 수 있으며, 반도체, 광전자 장치, MEMS, 광학 렌즈 등 다양한 구성 요소를 빠르고 정확하게 만들 수 있습니다. 이 기계는 1230mm x 1220mm 스테이지를 포함하며 최대 300mm의 다양한 기판을 지원할 수 있습니다. 단계의 동작 역학은 일관되고 반복 가능한 동작 제어를 제공하는 공기 베어링과 LSM (Linear Synchronous Motors) 으로 구성됩니다. 스테이지의 높은 안정성은 웨이퍼 전체에 균일 한 노출을 보장합니다. 이 도구는 강력한 컨트롤러와 닫힌 루프 피드백 (closed loop feedback) 자산을 활용하여 정확한 빔 포지셔닝 및 노출을 지원합니다. 1230에는 광학, 조명 및 제어를 위한 별도의 모듈이 있는 모듈식 아키텍처가 있습니다. 이 모듈식 설계를 통해 사용자의 어플리케이션 요구 사항에 맞게 다양한 옵틱 (optic) 및 조명 (illumination) 소스를 설치할 수 있습니다. 최대 4 개의 노출 헤드와 옵션 로봇 핸들러로 모델을 구성 할 수 있습니다. 노출 헤드에는 Imbert-Friedrich 조명, Spectral Selection, Fourier Filtering, Cradle and Step Selection 및 On-Axis 광학 시스템을 포함한 다양한 광학 및 소스가 포함되어 있으므로 다양한 리소그래피 및 처리 응용 프로그램에 적합합니다. COLIGHT 1230은 운영자 안전을 보장하기 위해 다양한 안전 기능으로 설계되었습니다. 안전 인터 록, 비상 정지 버튼 및 연동 된 액세스 도어가있는 장벽 경비원이 특징입니다. 또한 웨이퍼 매핑 (wafer mapping), 웨이퍼 카운팅 (wafer counting) 및 서브 미크론 정렬 (sub-micron alignment) 과 같은 다양한 도량형 기능을 통해 사용자가 노출 프로세스를 정확하게 제어할 수 있습니다. 편리한 GUI (Graphical User Interface) 를 통해 쉽게 매개변수를 설정하고 제어할 수 있습니다. 1230은 반도체, MEMS 장치, 광학 렌즈 등 고급 광학 부품의 빌더에 적합한 고가용성 노출 장치 (Exposure Unit) 입니다. 즉, 빠르고 정확한 노출을 통해 균일하고 반복 가능한 결과를 얻을 수 있으므로 고품질 (HA) 구성요소를 빠르고 효율적으로 생성할 수 있습니다.