판매용 중고 ADTEC Bex-250S-W #9384307

ADTEC Bex-250S-W는 집적 회로 생산에서 정확한 패턴 전송을 위해 설계된 완전 자동, 고정밀 노출 장비입니다. 직경이 최대 8 인치인 웨이퍼 (wafer) 에서 고품질 패턴을 만들 수 있습니다. 이 시스템에는 0.5 ~ 50mJ의 노출 에너지 수준을 달성 할 수있는 250W 레이저 소스가 장착되어 있습니다. 레이저 소스 (laser source) 는 넓은 광도 광도계 범위를 특징으로하며, 높은 정확도로 안정적인 성능을 제공합니다. 이 장치에는 높은 정밀도 빔 방향 머신 (beam-orientation machine) 이 장착되어 있어 웨이퍼로 빔을 정확하게 정렬 할 수 있습니다. Bex-250S-W는 직선, 원, 선 패턴과 같은 다양한 노출 형식을 지원할 수 있습니다. 또한 다중 레벨 노출 및 다중 노출 패턴을 지원합니다. 또한 패턴 에지 매끄러움 최적화 (pattern-edge smoothness optimization), 결함 검사, 에지 오버랩 수정 (edge-overlap correction), 품질 관리 (quality control) 등의 다양한 기능을 통해 개발 시간과 노력을 최소화할 수 있도록 설계되었습니다. 이 모델에는 레이저 소스 (laser source) 및 빔 방향 에셋 (beam-orientation asset) 외에도 외국 물체 탐지기, 레이저 노출 및 언로드 챔버 사이에 웨이퍼를 안전하고 안전하게 운송하는 진공 자동 로더가 장착되어 있습니다. 이를 통해 장비는 순차적으로 정확하고 효율적으로 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. ADTEC Bex-250S-W는 직관적인 사용자 인터페이스를 통해 사용자 친화적으로 설계되었습니다. 사용자는 노출 매개변수, 패턴 모서리 최적화, 시퀀스 최적화 등의 단계를 쉽게 프로그래밍할 수 있습니다. @ @ @ @ @ @ @ @ @ @ @ @ 이 시스템은 또한 사용자에게 잠재적 문제를 경고하고 사용자가 빠르고 쉽게 조정 또는 수정할 수 있도록 경고하는 경보 장치를 갖추고 있습니다. Bex-250S-W는 단일 및 다중 레이어 집적 회로의 생산에 이상적입니다. 높은 정확도와 정밀도를 통해 고품질의 집적회로 (integrated circuit) 의 생산에 매우 유용한 도구입니다.